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英国Oxford Vacuum 电子束蒸发镀膜机

发布时间:2023-12-23 16:16:48 点击次数:4103 次

                                英国Oxford Vacuum 电子束蒸发镀膜机Vapour Station 4

微纳器件样品制备系统


 

产品简介

该电子束蒸发镀膜仪是一款微纳器件样品制备系统,为有机无机多源有 气相分子沉积系统,高真空条件下,通过加热材料的方法,在衬底上沉积各 种化合物、混合物单层或多层膜,具有高真空多源有机、金属电阻蒸发及手 套箱保护条件下器件后期制作,主要用于有机半导体材料的物理化学性能, 研究实验、有机半导体器件的原理研究实验也可用于普通金属电蒸发镀膜研究;

    

 

真空室采用优质不锈钢,氩弧焊接、采用先进钝化处理工艺。基片台尺 寸:3 英寸,配备一套 TELEMARK 的单袋电子束靶枪一套;镀膜室用一台 高精度石英晶振膜厚监测仪进行薄膜厚度监测,配备有原装石英晶振探头; 镀膜生长室放置2个热阻蒸发舟,是一款真空高性价比的电子束蒸发镀膜机。

 

   

尺寸:495 mm (L) x 485 mm (W) x 500 mm (H)

 

真空腔体:

真空腔体要求:大样品尺寸为 3 英寸,样品台直径为 75mm; 薄膜均匀性≤±1%;

限压力:真空腔室薄膜高真空度<3×10-7 mbar;

真空计:真空测量系统,宽范围的真空规,高真空度小于 3×10-7mbar;

样品夹真空腔体里配有样品夹,能够固定住样品;

挡板:真空腔体里配有沉积挡板,工作时能区分开不同样品;

蒸发样品池:配置单袋容量 1.5cc 的电子束靶枪,电源功率为3KW ;

蒸发舟:2个热蒸发钨舟,用于沉积一些热蒸发材料;

 

薄膜监测仪:

.电脑控制的薄膜监测仪,能实时监测薄膜的厚度情况;

.测量频率范围至少包含6.0 to 5.0 MHz这个范围;

.频率分辨率应≤±0.03 Hz (at 6 MHz); 测量间隔应≤0.10 s;厚度显示分辨率≤1 Å;

 

真空系统:

 .真空系统组成:应至少包含一台干式涡旋泵和一台涡轮分子 泵,美国安捷伦干式涡旋泵作为泵;

.爱德华涡轮分子泵:

 -N2抽速:240 L/s;

 -限真空(ISO):<6&times;10-8mbar;

 -强制空气冷却,35&deg;C,环境温度:30sccm;

 -标称旋转速度:60000rpm;

 -待机旋转速度范围:33000-60000rpm;

 -可编程功率限制范围:50-200W

 -强制空气冷却的环境空气温度:5-35&deg;C;

 -噪音别:<45dB(A)

冷却方式包含有风冷和水冷两种方式可供提选择;

 

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