英国Oxford Vacuum 电子束蒸发镀膜机Vapour Station 4

微纳器件样品制备系统

产品简介

该电子束蒸发镀膜仪是一款微纳器件样品制备系统，为有机无机多源有 气相分子沉积系统，高真空条件下，通过加热材料的方法，在衬底上沉积各 种化合物、混合物单层或多层膜，具有高真空多源有机、金属电阻蒸发及手 套箱保护条件下器件后期制作，主要用于有机半导体材料的物理化学性能， 研究实验、有机半导体器件的原理研究实验也可用于普通金属电蒸发镀膜研究；

真空室采用优质不锈钢，氩弧焊接、采用先进钝化处理工艺。基片台尺 寸：3 英寸，配备一套 TELEMARK 的单袋电子束靶枪一套；镀膜室用一台 高精度石英晶振膜厚监测仪进行薄膜厚度监测，配备有原装石英晶振探头； 镀膜生长室放置2个热阻蒸发舟，是一款真空高性价比的电子束蒸发镀膜机。

尺寸:495 mm (L) x 485 mm (W) x 500 mm (H)

真空腔体:

真空腔体要求：大样品尺寸为 3 英寸，样品台直径为 75mm； 薄膜均匀性≤±1%；

限压力：真空腔室薄膜高真空度＜3×10-7 mbar；

真空计：真空测量系统，宽范围的真空规，高真空度小于 3×10-7mbar；

样品夹：真空腔体里配有样品夹，能够固定住样品；

挡板：真空腔体里配有沉积挡板，工作时能区分开不同样品；

蒸发样品池：配置单袋容量 1.5cc 的电子束靶枪，电源功率为3KW ；

蒸发舟：2个热蒸发钨舟，用于沉积一些热蒸发材料；

薄膜监测仪：

.电脑控制的薄膜监测仪，能实时监测薄膜的厚度情况；

.测量频率范围至少包含6.0 to 5.0 MHz这个范围；

.频率分辨率应≤±0.03 Hz （at 6 MHz）； 测量间隔应≤0.10 s；厚度显示分辨率≤1 Å；

真空系统：

 .真空系统组成：应至少包含一台干式涡旋泵和一台涡轮分子 泵，美国安捷伦干式涡旋泵作为泵；

.爱德华涡轮分子泵：

 -N2抽速：240 L/s；

 -限真空（ISO）：<6&times;10-8mbar；

 -强制空气冷却，35&deg;C,环境温度：30sccm；

 -标称旋转速度：60000rpm；

 -待机旋转速度范围：33000-60000rpm；

 -可编程功率限制范围：50-200W

 -强制空气冷却的环境空气温度：5-35&deg;C；

 -噪音别：<45dB(A)

冷却方式包含有风冷和水冷两种方式可供提选择；