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为什么有些半导体器件的生产工序要在真空中进行

发布时间:2023-12-22 09:30:19 点击次数:4687 次

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工艺设备腔体内的真空度是一方面要满足辉光放电的起辉条件,另一方面避免粒子碰撞过多导致动量损失。等离子体化学气相沉积、磁控溅射、干法刻蚀等工艺设备,都是先给个电压让腔体内反应气体离化,形成腔体内等离子体通路和外部电极的电流回路。如果气压过低也就是粒子太少,内部电流通路就无法形成,无法辉光自持。如果气压过高,等离子体在向样品表面移动过程中粒子碰撞,发生动量的方向发散和大小损失,也能影响起辉(撞不开了),对干刻速率等工艺效果有影响。


北京锦正茂科技有限公司拥有专业真空腔体设计制造技术,根据工业和研究中心的高要求制造腔体,用于高真空和超高真空制程或学术研究设备。


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例:真空法兰、真空配件、真空波纹管以及蓝宝石真空视窗等,可应用于真空腔体(箱体)上。





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